展示会の詳細
第21回 インターフェックス ジャパン
| 会期 | 2008年7月2日(水) ～ 2008年7月4日(金) |
|---|---|
| 会場 | 東京ビッグサイト | 展示品 |
| 会場図 |
シスメックス ブース番号 56-4 |
| セミナー | 製品・技術セミナー 会場（共通）：プレゼンテーション会場 EX-P5 日時：2008年7月2日(水) 13:40～14:40 テーマ：近赤外化学イメージング装置SyNIRgiによる製剤粒子の混合・分散状態の評価 日時：2008年7月3日(木) 15:00～16:00 テーマ：創薬分野におけるナノ粒子・タンパク質の動的変化解析 日時：2008年7月4日(金) 12:20～13:20 テーマ：乾式粒子画像分析装置MorphologiG3を用いた医薬品原料の評価 |
