1台で真空定容法と温度プログラム式流通法、両方の測定が可能！また触媒活性サイトの定量分析と定性分析もこれ1台でOK！まさに“2 in 1”のスグレモノです。
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- 真空定容法と温度プログラム式流通法の両方の測定を一台の装置で行えます。また、これらの測定モードの切り替えは簡単に行えます。
- 真空定容法、TCD流通法のそれぞれに対応するデータ解析（Windows対応）ソフトウェアが供に付属しています。
- 一台の装置で触媒活性サイトの定量分析と定性分析の両方を行えます。
- 超低圧ガス吸着分析により、ゼオライト・活性炭・シリカ等のミクロ細孔径分布の解析を行えます。
- 高精度真空定容法による全自動物理吸着・化学吸着測定と、高感度熱伝導率検出器（TCD）によるガス検出機能とが統合されています。BET表面積、メソ・ミクロ細孔径分布、活性表面積、金属分散度、吸着熱等の分析に加え、TPR/TPD/TPO分析も行えます。
- 前処理および分析手順を自由にプログラムして、 TPD/TPR/TPO などの温度プログラムを全自動で測定することができます。1000℃までの昇温速度制御を任意のステップで行え、自動ガス切り替えや自動データ取得も可能です。
- 活性表面積や金属分散度等を迅速に測定するために、流通式パルス滴定法も装備されています。
- 水蒸気・有機蒸気吸着量測定用の加熱マニホールドと蒸気発生器も御用意しております。（オプション）
- 脱離ガスの識別用に、四重極質量分析計を付属できます。（オプション）
混合Cu/Mo酸化物の水素TPR
化学吸着分析では、活性サイトの総数や活性表面積が評価されます。サンプルを加熱すると、化学吸着質は初めに活性サイトに結合された強さに応じて脱離する傾向があります。弱いサイトは通常、強いサイトよりも低い温度で化学吸着した吸着質を放出します。
サンプルの活性サイトに二つの異なるタイプがある場合、加熱すると別々の温度でガスを脱離します。これらの脱離ガスを定量化するには、TPD法（昇温脱離 法）を用います。TPD法ではサンプルの温度を直線的に上げて、高感度熱伝導度検出器でガスの脱離をモニターします。分散した金属触媒の還元作用は、 TPR法（昇温還元法）により評価を行います。TPR法では、還元ガス（一般的にはH2またはCO）が反応する割合を、温度の関数としてモニターすることで特性評価を行えます。また酸化反応は、O2混合ガスを流して温度との反応率を記録するTPO法（昇温酸化法）により特性評価を行えます。
TCDオプションが備わったAutosorb®-1-C/TCDは、TPD/TPR/TPO分析、活性表面積・BET表面積・ミクロ／メソ細孔径分析を揃えた触媒の包括的な特性評価を提供します。
